ご参加・ご協力いただきました皆様へ

 この度は、第48回ガラスおよびフォトニクス材料討論会(ガラス産業連合会 第3回ガラス技術シンポジウム併催)にご参加いただき、誠にありがとう御座いました。

 参加登録数、204名(一般:157人、学生:47人)、懇親会へのご参加も105名となり、あらためて、ご協力いただきました皆様へ感謝している次第です。

 来年度は、東北大学、藤原巧先生、正井博和先生のお世話で、仙台にて開催予定で御座います。

 本年と同様、多数のご参加をお待ちしております。

 豊橋技術科学大学
   松田厚範、武藤浩行、片桐清文


2007.12.5

◆お知らせ



◆参加登録費

一般5,000円、学生2,000円(予稿集1部を含む)

◆懇親会参加費

  事前登録 7,000円
  当日参加 9,000円

◆主催

日本セラミックス協会 ガラス部会

◆共催

ガラス産業連合会

◆協賛

日本セラミックス協会同東海支部
日本化学会
応用物理学会
高分子学会
日本ゾル−ゲル学会
東海若手セラミスト懇話会
豊橋技術科学大学 先端フォトニック情報メモリリサーチセンター

◆後援

豊橋観光コンベンション協会

◆討論主題

(1) ガラス、無機-有機ハイブリッド、フォトニクス材料の科学と技術
(2) 共催特別企画:ガラス産業連合会・第3回ガラス技術シンポジウム
 a) 環境負荷の低減に向けて
 b) ガラスに関係する大学等研究機関の研究室紹介、企業製品・技術紹介(技術動向や技術課題の紹介を含む)


*当Webサイトは東海若手セラミスト懇話会の協力により、同会のサーバー内に設置されています